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技術(shù)文章
蒸餾水、去離子水、高純水和超純水是實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)中常見(jiàn)的純水類型，主要區(qū)別在于純度等級(jí)、制備方法及應(yīng)用場(chǎng)景。以下是環(huán)揚(yáng)未來(lái)對(duì)此進(jìn)行的詳細(xì)對(duì)比：
制備方法：通過(guò)蒸餾（加熱蒸發(fā)后冷凝）去除雜質(zhì)。
純度特點(diǎn)：
去除大部分無(wú)機(jī)離子、微生物和部分有機(jī)物。
純度較低，可能殘留揮發(fā)性物質(zhì)（如氯仿、二氧化碳）。
關(guān)鍵指標(biāo)：
電導(dǎo)率：通常＞1 μS/cm（電阻率＜1 MΩ·cm）。
微生物含量：較高（需滅菌后使用）。
應(yīng)用場(chǎng)景：基礎(chǔ)化學(xué)實(shí)驗(yàn)、玻璃器皿清洗、普通分析。
制備方法：通過(guò)離子交換樹(shù)脂吸附水中的陰陽(yáng)離子。
純度特點(diǎn)：
高效去除無(wú)機(jī)離子（如Ca2?、Mg2?、Cl?），但可能殘留有機(jī)物和微生物。
電導(dǎo)率較低，但長(zhǎng)期儲(chǔ)存易吸收CO?導(dǎo)致純度下降。
關(guān)鍵指標(biāo)：
電導(dǎo)率：0.1~1 μS/cm（電阻率1~10 MΩ·cm）。
TOC（總有機(jī)碳）：未嚴(yán)格控制。
應(yīng)用場(chǎng)景：配制溶液、儀器沖洗、工業(yè)清洗。
制備方法：結(jié)合反滲透（RO）、去離子化和紫外殺菌等多級(jí)處理。
純度特點(diǎn)：
嚴(yán)格控制無(wú)機(jī)離子、有機(jī)物和微生物。
電導(dǎo)率更低，適用于多數(shù)分析儀器。
關(guān)鍵指標(biāo)：
電導(dǎo)率：＜0.1 μS/cm（電阻率＞10 MΩ·cm）。
TOC：＜50 ppb，微生物含量＜1 CFU/mL。
應(yīng)用場(chǎng)景：HPLC（高效液相色譜）、光譜分析、細(xì)胞培養(yǎng)。
制備方法：在高純水基礎(chǔ)上，增加脫氣、拋光混床、循環(huán)過(guò)濾等步驟。
純度特點(diǎn)：
幾乎除離子、有機(jī)物、顆粒和溶解氣體。
電導(dǎo)率接近理論極限（18.2 MΩ·cm），適用于痕量分析。
關(guān)鍵指標(biāo)：
電導(dǎo)率：＜0.055 μS/cm（電阻率＞18.2 MΩ·cm）。
TOC：＜10 ppb，微生物含量＜0.1 CFU/mL。
硅含量：＜0.01 mg/L。
應(yīng)用場(chǎng)景：半導(dǎo)體制造、痕量金屬分析、基因測(cè)序、納米材料研究。
| 類型 | 制備方法 | 電導(dǎo)率（μS/cm） | 電阻率（MΩ·cm） | TOC（ppb） | 應(yīng)用場(chǎng)景 |
|---|---|---|---|---|---|
| 蒸餾水 | 蒸餾 | ＞1 | ＜1 | 未控制 | 基礎(chǔ)實(shí)驗(yàn)、清洗 |
| 去離子水 | 離子交換樹(shù)脂 | 0.1~1 | 1~10 | 未控制 | 配制溶液、工業(yè)清洗 |
| 高純水 | RO+去離子化+UV | ＜0.1 | ＞10 | ＜50 | 分析儀器、細(xì)胞培養(yǎng) |
| 超純水 | 多級(jí)處理（含脫氣、拋光） | ＜0.055 | ＞18.2 | ＜10 | 半導(dǎo)體、痕量分析、納米技術(shù) |
純度等級(jí)：
超純水＞高純水＞去離子水＞蒸餾水。
制備成本：
超純水制備系統(tǒng)最復(fù)雜，成本最高。
儲(chǔ)存要求：
高純水和超純水需密閉儲(chǔ)存，避免吸收空氣中的CO?和顆粒物。
術(shù)語(yǔ)差異：
某些領(lǐng)域可能將“高純水"與“超純水"混用，但嚴(yán)格來(lái)說(shuō)超純水純度更高。
根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求選擇合適的水質(zhì)，可避免雜質(zhì)干擾，確保結(jié)果準(zhǔn)確性。
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